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多用途真空实验装置
超导双面薄膜制备系统
SY1000-Ⅰ型RF磁光晶体混合沉积系统
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超导双面薄膜制备系统
APParatns For
Double-sided HTSC Thin Film |
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该系统主要进行大面积高温超导双面薄膜材料的制备，属于自行研制的非标真空系统，可以在各种基片上原位生长3英寸高温超导双面薄膜，以满足高温超导微波电路及红外探测器陈列研制的需要。该系统已被电子科技大学正式使用，所镀产品已获国家科技进步二等奖。
 系统配置
4个圆筒形溅射靶
真空获得及测量系统
基片加热及基片转动系统
镀膜气氛控制系统
技术参数
最高基片温度800℃
本底真空度：10-5Pa
工作气压范围：5
Pa-100 Pa
主要功能：
大面积高温超导双面薄膜的制备。 |
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SY1OOO--Ⅰ型RF磁光晶体混合沉积系统
SY1OOO--ⅠRF Magn etic-0ptical crystal
Aggradation syetem |
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该设备主要用于非导电材料的射频溅射镀膜，具有镀膜效率高，成膜缺陷少,膜厚控制精确等特点。 该系统已被电子科技大学正式使用，并承担军品的科研任务。
系统配置
2个1000W射频磁控溅射靶和1个1000W直流磁控溅射靶
三靶溅射
D08-2B/ZM流量控制
ACM-0501/循环制冷机
技术参数
自转速率：0-90转/分
工件转动速度：0-90转/分
直流电源功率：1000W
真空度：2×10-4Pa
加热温度：最高650℃
主要功能：
YIG晶体膜的制备
多层膜的制备 |
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